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搶先一睹 HASWELL-EP 工作站:XEON E5 V3 很讚,但是依然大有可為

隨著 Intel (那斯達克交易代號:INTC) 在今日發表第三代 Xeon E5 雙 CPU 平台,許多人也相當關注這項產品能如何提升資料中心的伺服器。然而,產品為高檔工作站所帶來的好處就算沒更多,也可說是不遑多讓。 首先,Haswell 核心意味著搭配積和熔加運算 (FMA),使得 AVX 的浮點運算功能大幅增強。舉例來說,像是就 Linpack 等標準而言,理論上錯誤辨識率會增加一倍。Haswell 之 AVX2 的重要性也不相上下,它將整數處理移至寬廣平行的 AVX 引擎,實際上將位址計算之外的任何事物卸載至類似 RISC 的三位址 AVX 指令格式,以及寬的暫存器集。就工作站應用程式而言,一旦為了運用這項產品而重新編譯,就有望獲得龐大的優勢,同時還能逐漸捨棄過時的 X86 程式碼基底。 其次,可就每一個 SKU 選擇多種核心 (從 8 個多達 18 個),能讓你根據應用程式的平行處理原則,在每核心速度 (例如每執行緒效能) 和核心數之間,挑選出恰當的平衡點。有些應用程式在許多核心的延展並不出色,因此偏好採用高的每核心速度,像是射線追蹤等其他應用程式則會儘量利用許多核心。 Xeon-E5 v3 系列的初始工作站 SKU 為E5 2687W v3,擁有 3.1 GHz 10 核零件,且確實在 2 核心 (及其相關快取) 關閉時,使用 12 核晶片。現在它的繼任者,也就是在 Ivy Bridge 平台作業的2687Wv2,即使停用晶片的某些核心,依然擁有完整的 L3 快取,我猜我們只有等到 Broadwell-EP (E5 v4) SKU 在明年推出時,才能見識到這項優勢。 接著我們來看 DDR4,沒錯,初始 DIMM 的速度並不算快,在延遲方面尤其如此,但是 DDR4 擁有較低電壓和其他可靠性的特色,加上其速度和延遲預期會在其後幾季中快速改善,所以應當能夠在雙插槽工作站提供使用者前所未見的生產力,不僅超越1.5 TB RAM,還不會像 DDR3 那樣,在高負載時犧牲頻寬。 改良 PCIe 頻寬、整合電壓調整器,並且將 QPI 的速度提升至 9.6 GT/s,也都是重要的其他優勢。 性能測試 現在我們來檢視初始參考工作站,這以 Intel 的 SKU 為基礎,且由 BOXX 封裝。機器在 SuperMicro X10DAi 工作站主機板採用液態冷卻技術,本身頗為精簡,並且配備三個 PCIe x16 v3 插槽。這並不會讓平台理論上的四個 GPU 完整頻寬功能達到最大值,但是對多數使用者來說,應該夠用了。反之,主機板的空間可供16 個 DDR4 DIMM 使用,也就是如果使用 64 GB 模組,就能在明年年初使用

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